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Patentgesetz: PatG
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
11., neubearbeitete Auflage
C.H.BECK
ISBN 978-3-406-66359-8
Standardpreis
Bibliografische Daten
Kommentar
Buch. Hardcover (Leinen)
11., neubearbeitete Auflage. 2015
Umfang: CIX, 2436 S.
Format (B x L): 16,0 x 24,0 cm
Gewicht: 2045
Verlag: C.H.BECK
ISBN: 978-3-406-66359-8
Weiterführende bibliografische Daten
Das Werk ist Teil der Reihe: Beck'sche Kurz-Kommentare; Band 4
Produktbeschreibung
Klarheit im Patentrecht von höchster Instanz.
Patent- und Gebrauchsmusterrecht
Dieser Klassiker ist der führende Kommentar zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht. In die Tiefe gehende und zugleich praxisorientierte Erläuterungen zeichnen den »Benkard« ebenso aus wie seine traditionelle Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Das Werk bietet ein Autorenteam, dessen Mitglieder – überwiegend Richter – vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt haben. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenzierendes und rechtsprechungsorientiertes Bild des geltenden Rechts- und Meinungsstandes.
Die 11. Auflage
- ist komplett neu bearbeitet und wird in wissenschaftlicher Hinsicht wie auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht
- versetzt den Benutzer in die Lage, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten
- stellt – wo nötig – insbesondere Bezüge zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Patentzusammenarbeitsvertrag (PCT) und zum ausländischen Recht her
- berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts sowie das Gesetz zur Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des gewerblichen Rechtsschutzes, als auch das Einheitspatentgericht und die Einheitspatentverordnung.
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Hinweis: Die 10. Auflage (978-3-406-53954-1) ist vergriffen.
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