Benkard

Patentgesetz: PatG

Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz

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Kommentar

Buch. Hardcover (Leinen)

11., neubearbeitete Auflage. 2015

CIX, 2436 S.

C.H.BECK. ISBN 978-3-406-66359-8

Format (B x L): 16,0 x 24,0 cm

Gewicht: 2045 g

Das Werk ist Teil der Reihe: Beck'sche Kurz-Kommentare; Band 4

Produktbeschreibung

Klarheit im Patentrecht von höchster Instanz.

Patent- und Gebrauchsmusterrecht

Dieser Klassiker ist der führende Kommentar zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht. In die Tiefe gehende und zugleich praxisorientierte Erläuterungen zeichnen den »Benkard« ebenso aus wie seine traditionelle Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Das Werk bietet ein Autorenteam, dessen Mitglieder – überwiegend Richter – vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt haben. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenzierendes und rechtsprechungsorientiertes Bild des geltenden Rechts- und Meinungsstandes.

Die 11. Auflage

ist komplett neu bearbeitet und wird in wissenschaftlicher Hinsicht wie auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht
versetzt den Benutzer in die Lage, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten
stellt – wo nötig – insbesondere Bezüge zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Patentzusammenarbeitsvertrag (PCT) und zum ausländischen Recht her
berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts sowie das Gesetz zur Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des gewerblichen Rechtsschutzes, als auch das Einheitspatentgericht und die Einheitspatentverordnung.