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Patentgesetz: PatG
Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
11., neubearbeitete Auflage
C.H.BECK
ISBN 978-3-406-66359-8
Standardpreis
Bibliografische Daten
Kommentar
Buch. Hardcover (Leinen)
11., neubearbeitete Auflage. 2015
Umfang: CIX, 2436 S.
Format (B x L): 16,0 x 24,0 cm
Gewicht: 2045
Verlag: C.H.BECK
ISBN: 978-3-406-66359-8
Weiterführende bibliografische Daten
Das Werk ist Teil der Reihe: Beck'sche Kurz-Kommentare; Band 4
Produktbeschreibung
Klarheit im Patentrecht von höchster Instanz.
Patent- und Gebrauchsmusterrecht
Dieser Klassiker ist der führende Kommentar zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht. In die Tiefe gehende und zugleich praxisorientierte Erläuterungen zeichnen den »Benkard« ebenso aus wie seine traditionelle Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Das Werk bietet ein Autorenteam, dessen Mitglieder – überwiegend Richter – vielfach selbst entscheidend die herrschende Meinung zum Patent- und Gebrauchsmusterrecht mitgeprägt haben. Mit jedem Detail bestens vertraut, zeichnen sie ein hochaktuelles, differenzierendes und rechtsprechungsorientiertes Bild des geltenden Rechts- und Meinungsstandes.
Die 11. Auflage
- ist komplett neu bearbeitet und wird in wissenschaftlicher Hinsicht wie auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht
- versetzt den Benutzer in die Lage, selbst fundiert zu argumentieren und auch schwierige Fragen zuverlässig zu beantworten
- stellt – wo nötig – insbesondere Bezüge zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum Patentzusammenarbeitsvertrag (PCT) und zum ausländischen Recht her
- berücksichtigt sowohl das Gesetz zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts sowie das Gesetz zur Novellierung patentrechtlicher Vorschriften und anderer Gesetze des gewerblichen Rechtsschutzes, als auch das Einheitspatentgericht und die Einheitspatentverordnung.
Autorinnen und Autoren
Kundeninformationen
Hinweis: Die 10. Auflage (978-3-406-53954-1) ist vergriffen.
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