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Patentgesetz
Unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens und des Patentzusammenarbeitsvertrags
Mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen
7., vollständig überarbeitete und erweiterte Auflage
De Gruyter
ISBN 978-3-89949-226-2
Standardpreis
Bibliografische Daten
Kommentar
Buch. Hardcover
7., vollständig überarbeitete und erweiterte Auflage. 2013
Umfang: LXVI, 2534 S.
Format (B x L): 24,0 x 17,0 cm
Verlag: De Gruyter
ISBN: 978-3-89949-226-2
Weiterführende bibliografische Daten
Das Werk ist Teil der Reihe: de Gruyter Kommentar
Produktbeschreibung
Das renommierte Standardwerk bietet mit der Kommentierung des Patentgesetzes, des Patentgebührengesetzes, des Gebrauchsmustergesetzes, des Halbleiterschutzgesetzes, des Arbeitnehmererfindungsgesetzes sowie des Gesetzes über Internationale Patentübereinkommen die umfassendste Darstellung des gesamten relevanten Patentrechts. Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur hierzu ist vollständig und aktuell erfasst.
Die Neuauflage berücksichtigt u.a. die Umsetzung der Durchsetzungsrichtlinie in das deutsche Recht mit dem Gesetz zur Verbesserung der Durchsetzung von Rechten des geistigen Eigentums, das Europäische Patentübereinkommen 2000 sowie sonstige Änderungen kommentierter Gesetze.
Die Autoren sind langjährig mit dem Patentrecht befasste Richter am Bundesgerichtshof und am Bundespatentgericht.
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