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Shim / Shin

Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

Springer International Publishing

ISBN 978-3-319-76294-4

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Bibliografische Daten

eBook. PDF

2018

XIV, 138 p. 92 illus., 54 illus. in color..

In englischer Sprache

Umfang: 138 S.

Verlag: Springer International Publishing

ISBN: 978-3-319-76294-4

Weiterführende bibliografische Daten

Das Werk ist Teil der Reihe: NanoScience and Technology

Produktbeschreibung

This book discusses physical design and mask synthesis of directed self-assembly lithography (DSAL). It covers the basic background of DSAL technology, physical design optimizations such as placement and redundant via insertion, and DSAL mask synthesis as well as its verification. Directed self-assembly lithography (DSAL) is a highly promising patterning solution in sub-7nm technology.

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